ParticleTrack G400實時粒徑與粒數分析儀

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實時粒徑

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在實驗室中研究顆粒粒徑和粒數

采用 FBRM 技術的 ParticleTrack G400 是直接插入到實驗室反應器中的探頭式儀器，以便在全工藝過程濃度下實時追蹤顆粒粒徑及粒數變化。隨著實驗條件的變化，持續監測顆粒、顆粒結構和液滴為科學家提供足夠證據以獲得具有所需屬性的一致顆粒。

顆粒粒徑與粒數直接影響多相工藝中的性能，包括結晶、乳化和絮凝。通過實時監測顆粒粒徑與粒數，科學家能夠使用基于證據的方法自信地了解、優化和放大實驗過程。

在為離線分析進行采樣和制備時，顆?？赡馨l生變化。通過追蹤過程中自然存在的顆粒的粒徑與粒數的變化，科學家能夠安全且無延遲地了解工藝過程 – 甚至是在極端溫度與壓力條件下。

隨著實驗條件的變化，通過連續監測顆粒，能夠確定過程參數對顆粒粒徑和粒數的影響。這種獨特的信息可用于設計能夠持續提供具有優化特性的顆粒的過程。

縱覽

實驗室中 ParticleTrack G400 的常見應用包括：

? 結晶工藝開發

? 表征乳化和液滴系統

? 優化顆粒粒徑分布

ParticleTrack G400 的主要特征：

? 設計緊湊，具有便攜性，占用最小空間的實驗室

? 探頭可互換，可用于范圍廣泛的實驗室規模(10mL 至 2L)

? 與 OptiMax 和 EasyMax 合成工作站無縫集成，進行最佳的實驗設置

? iC FBRM 軟件，進行快速、直觀的顆粒數據分析

ParticleTrack G400 比以前的梅特勒-托利多 Lasentec FBRM 技術(S400 和 D600)有了重大改進。

? 實時研究顆粒粒徑與粒數

科學家將 ParticleTrack 探頭直接插入到過程流體中，以長時間連續監測顆粒粒徑與粒數，而無需采樣。這種獨特的信息成為有效了解涉及晶體、顆粒和液滴的過程的基礎。

? 借助 ParticleTrack將過程與顆粒系統相關聯

科學家可以定期確定過程參數如何影響顆粒系統。可以確定過程參數對生長、團聚、破損和形狀變化等機制的影響，從而可以使用基于證據的方法對過程進行優化和改進。

? 創建符合目的的顆粒系統

科學家使用 ParticleTrack 來確定如何穩定得到所需粒徑和粒數的顆粒產品。在研發、中試到投入生產的過程中，通過選擇最佳的過程參數，科學家可以以較低的總成本快速向市場提供高品質的顆粒產品。

? 監測并糾正過程偏差

ParticleTrack 用于對生產中的既定過程進行監測、故障排除和改進。可以安全地監測難以采樣的復雜過程，確保一致地生產質量盡可能最高的顆粒。

規格 - ParticleTrack G400

測量范圍	0.5 – 2000μm; 0.5-2000um
溫度范圍（主機/現場裝置）	5 至35°C
主機說明	實驗室主機
主機尺寸(高x寬x長)	89 mm x 237 mm x 492 mm
認證	CE 認證， 1 類激光， NRTL 認證， CB Scheme 認證
電源要求	100-240VAC, 50/60Hz, 1.2A
適用于	實驗室： EasyMax/OptiMax
軟件	iC FBRM
掃描系統	電子掃描儀
掃描速度	2m/s （19mm探頭為1.2m/s）
弦長選擇方法(CSM)	Primary（精細）和 Macro（粗糙）
探頭直徑	14/9.5mm; 19mm探頭; 9.5mm
探頭浸濕長度	206mm （用于 14/9.5mm 探頭）; 400mm （用于 19mm 探頭）; 91mm （用于 9.5mm 探頭）
探頭浸濕合金	C22
窗口(W)	藍寶石
標準窗口封條	Kalrez? （標準 19mm）; TM（標準 14/9.5 ）; TM（標準9.5,14/9.5）
探頭/窗口選件	TM 窗口（用于19mm 探頭的選件）
額定壓力（探頭）	3barg （標準）; 高達 100barg （自定義）
額定溫度（探頭）	-10 至 90°C （Kalrez 和清洗）; -80 至 90°C （TM 和清洗）; +10 至 90°C （標準）
導管長度	3m [9.8ft]
空氣要求	低流量清洗（使用以避免冷凝物）; 最大流量： 5NL/min [0.2SCFM]; 清洗歧管的最大入口壓力： 8.6barg [125 psig]; 清洗歧管的最大出口壓力： 0.8barg [12psig]
ParticleTrack型號	ParticleTrack G400
物料號 (s)	14420890